Annuaire auteurs

Marie-Hélène CHAVANNE

Ingénieur d’Études - Chimie ParisTech, PSL Research University, CNRS, Institut de Recherche de Chimie Paris (IRCP), F-75005 Paris, France

10 octobre 2016

RE256
ALD pour les piles à combustible à haute température

Le dépôt par couches atomiques (ALD) représente une grande avancée pour tous les types de piles à combustion à haute température. L’intérêt est le dépôt de couches très minces, conformes et denses, dont le rôle s’étend du contrôle de la corrosion à la création de fonctionnalités spécifiques.

A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z