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Chercheur, PhD HdR - Université Paris-Saclay, CEA, LIST, laboratoire national Henri Becquerel (LNE-LNHB), Palaiseau, France
La technique d’analyse combinant réflectivité X et fluorescence X en incidence rasante s’effectue sans référence à des étalons. Par le calcul du champ électrique stationnaire, elle déduit le profil en densité, en épaisseur, en rugosité d’interface et en composition atomique des couches minces d’épaisseur nanométrique.