1 Description générale de la technique
2 Caractéristiques physiques
2.1 Évaporation: modèle de l'oscillateur simple
2.2 Transfert source-substrat: interactions avec le gaz résiduel
2.3 Condensation et croissance des couches sur le substrat
3 Sources d'évaporation
3.1 Chauffage par résistance
3.2 Chauffage par haute fréquence (HF)
3.3 Chauffage par bombardement électronique (B.E.)
4 Évaporation des matériaux composés
4.1 Cas des alliages
4.2 Cas des composés chimiques définis
5 Vitesse de dépôt et uniformité d'épaisseur
5.1 Vitesse d'évaporation
5.2 Vitesse de dépôt
5.3 Uniformité d'épaisseur
5.4 Mesure de l'épaisseur des couches minces
Index bibliographique