Conclusion
Apport de la caractérisation in situ dans les procédés ALD

Les procédés ALD sont devenus une technologie de dépôt incontournable dans de nombreux domaines industriels, bien au-delà de la microélectronique. La nécessaire maturité du contrôle des différents paramètres du procédé d’élaboration a bénéficié et continuera de bénéficier des apports de connaissances fondamentales, qui sont accessibles de manière très pertinente sur différents aspects, par la réalisation de caractérisation in situ ou quasi in situ.

Les différentes techniques développées et utilisées contribuent à augmenter la connaissance du procédé de dépôt ALD. Elles éclairent ainsi différents points avec, en premier lieu, la détermination de la fenêtre de dépôt ALD et la détermination du GPC, puis la connaissance des mécanismes réactionnels, et enfin les corrélations entre les paramètres de dépôt avec les propriétés des films élaborés. Le tableau