Principe général de l’ALD
Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

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Principe général de l’ALD
Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

Auteur(s) : Nathanaelle SCHNEIDER, Frédérique DONSANTI

Date de publication : 10 octobre 2016 | Read in english

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2. Principe général de l’ALD

2.1 Notions fondamentales de l’ALD

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2.1.1 Dépôt chimique en phase vapeur

L’ALD est une variation récente d’une technique développée dès les années 1920, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD, Chemical Vapor Deposition )

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