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Dépôts ioniques

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M1663 V1 Archive

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Dépôts ioniques

Auteur(s) : Jean MACHET

Date de publication : 10 janvier 1986 | Read in english

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1. Description

Le dispositif expérimental le plus simple est schématisé sur la figure  1 . Le corps à déposer est évaporé dans la nacelle N chauffée par effet Joule. Les substrats S sont disposés sous l’électrode C appelée cathode, polarisée négativement par rapport au reste de l’enceinte reliée à la masse. L’introduction d’un gaz permet de faire remonter la pression dans l’enceinte et d’amorcer une décharge électrique entre la cathode porte-substrats et le reste de l’enceinte. Si l’on veut réaliser le dépôt d’un métal, le gaz utilisé est de l’argon. Si l’on veut obtenir un dépôt d’un matériau composé, on introduit le ou les gaz correspondant à ce matériau.

Exemple

pour obtenir du nitrure de titane, le titane est évaporé en...

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