Après avoir acquis un spectre Auger en sonde fixe (voir [
]), la
cartographie
d’un élément s’obtient
aisément en mesurant l’évolution de l’intensité de la raie Auger correspondante
au cours du balayage de la surface de l’échantillon par la sonde électronique
incidente, alors que le
profil en profondeur
s’obtient, en
sonde fixe, en suivant cette même évolution au cours de l’érosion
ionique de la surface.
Avec la spectroscopie des photoélectrons X (XPS : « X-ray photoelectron
spectroscopy » ou ESCA : « electron spectroscopy for chemical analysis »)
et la spectroscopie de masse des ions secondaires (SIMS), la
spectromicroscopie
Auger induite par des électrons
(association de la spectroscopie,
généralement désignée par l’acronyme e
–
AES pour « electron-induced
Auger electron spectroscopy », et de la microscopie Auger, généralement
désignée par SAM pour « scanning Auger electron microscopy ») est
l’une des trois techniques privilégiées pour l’
analyse élémentaire
des surfaces et des interfaces
.
Combiné à sa grande sensibilité superficielle, son caractère spécifique
réside d’abord dans son excellente résolution latérale qui lui permet
d’analyser des objets de taille micrométrique, voire nanométrique.
Outre les perspectives d’application dans les différents domaines
des nanotechnologies, ses applications privilégiées concernent les
industries de la microélectronique (analyse et contrôle des circuits
à haute intégration), de la métallurgie (pour la composition des joints
de grains), de la mécanique et des traitements de surface, voire de
la catalyse (pour l’analyse ponctuelle de catalyseurs dispersés) ainsi
que dans les laboratoires de recherche et d’application des multicouches
métalliques.