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Dépôt de films nanométriques en pulvérisation cathodique radiofréquence

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Dépôt de films nanométriques en pulvérisation cathodique radiofréquence

Auteur(s) : Gilles RENOU

Date de publication : 1 avril 2006 | Read in english

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RéférencesBLAISE (G.)Aspects cinématiques de l'interaction ion-surface.LIMOGE (Y.)Le vide, les couches minces. Suppl. no 224, SFV (1984).SIGMUND (P.)Theory of spottering. Physical Review vol. 181, no 2 (1969).AutresSERWAY (R.)Physics for Scientists and Engineers. Third edition, Saunders College Publishing.RAIZER (Yu.P.)Gas Discharge Physics. Springer.Interactions plasmas froids matériaux. Journée d'études « Oléron 87 », Les éditions de la physique.MAHAN (J.E.)Physical vapor deposition of thin films. Wiley Interscience Publication.Le vide les couches minces. Suppl. no 224, Société française du Vide.
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