Choix du procédé d’élaboration
Traitements de surface liés aux connexions en microélectronique

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Choix du procédé d’élaboration
Traitements de surface liés aux connexions en microélectronique

Auteur(s) : Gilles POUPON

Relu et validé le 1 février 2016 | Read in english

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5. Choix du procédé d’élaboration

Outre la nature de l’alliage à réaliser, le choix du procédé d’élaboration du matériau est également conditionné par la taille des microbilles et le pas des futures interconnexions (probablement les facteurs les plus importants). En effet, selon que l’on veuille assembler un processeur ou un détecteur d’images (plusieurs centaines d’interconnexions, quelques millimètres de côté et faible pas d’interconnexion) ou un boîtier BGA (quelques entrées/sorties au pas de plusieurs centaines de micromètres), le mode d’élaboration du matériau différera (figure  14 ).

Pour la plupart, ces procédés sont «  wafer level  », ils permettent donc la réalisation simultanée de plusieurs milliers de connexions électriques sur les substrats. Selon...

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