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Ald

Ald dans les ressources documentaires

  • Article de bases documentaires : RECHERCHE ET INNOVATION
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  • 10 nov. 2016
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  • Réf : RE252

Évaluation thermodynamique des précurseurs ALD

de couches atomiques (ALD) permet de définir les conditions opératoires optimales, de prévoir... . Cet article offre à l’ingénieur qui utilise le procédé ALD avec des précurseurs organométalliques une méthode... Vapor Deposition et ALD pour Atomic layer Deposition ) car elles présentent une pression de vapeur... organométalliques VIOLET (P.), et al - Experimental thermodynamics for the evaluation of ALD growth processes...

Les articles Recherche et Innovation présentent des technologies en cours de développement, émergentes, qui n'ont pas encore atteint leur pleine maturité pour un développement industriel mais sont prometteuses.

  • Article de bases documentaires : RECHERCHE ET INNOVATION
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  • 10 nov. 2016
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  • Réf : RE254

Réacteurs ALD

réacteurs ALD... procédé ALD... Les réacteurs de dépôt de couche minces par ALD (Atomic Layer Deposition) pour une variété d... de croissance ALD sont passées en revue. Ensuite, les différentes approches qui ont été développées pour obtenir...

Les articles Recherche et Innovation présentent des technologies en cours de développement, émergentes, qui n'ont pas encore atteint leur pleine maturité pour un développement industriel mais sont prometteuses.

  • Article de bases documentaires : RECHERCHE ET INNOVATION
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  • 10 nov. 2016
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  • Réf : RE255

ALD en microélectronique

ou sans assistance plasma) sont décrits. L’ALD est arrivée assez tardivement en microélectronique... . Le principal atout de l’ALD est sa capacité à fabriquer des films très minces avec un excellent contrôle... ou sur des topographies complexes. De plus, de par son principe de saturation de surface, l’ALD n’est pas sensible... . Dans cet article sont présentées les différentes applications de l’ALD dans le milieu de la microélectronique...

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