Glossaire

# ALD : définition

Technique de dépôt chimique en phase vapeur à flux alternés, basée sur des réactions de surface autolimitantes, qui permet un contrôle fin de l’épaisseur, de la composition des films, et des caractéristiques spécifiques (uniformité, conformalité).
Dans les ressources documentaires

Articles de références et fiches pratiques à propos de : ALD

Atomic Layer Deposition (ALD)
Réf : RE253

Cet article détaille le principe de la méthode de dépôt chimique par flux alternés appelée Atomic Layer Deposition (ALD). À l’issue d’un inventaire des différents matériaux pouvant être déposés par cette technique, il est suivi d’un bref résumé de ses applications [...]

10 oct. 2016

Simulation à l’échelle atomique en ALD des oxydes [...]
Réf : RE259

La simulation à l’échelle atomique permet de prédire, quantifier et interroger avec force détails la chimie des interactions entre atomes et d’en déduire leur organisation à l’échelle des interfaces. Cet article a pour ambition de présenter une démarche de la simulation à [...]

10 oct. 2016

ALD assistée par plasma (PEALD)
Réf : RE260

Cet article a pour but de montrer l’intérêt d’une assistance plasma dans un procédé ALD. La première section de cet article permet d’introduire et de définir les plasmas froids ainsi que les réacteurs associés. La seconde section porte sur les avantages d’une assistance [...]

10 oct. 2016

Dans l'actualité

Actualité à propos de : ALD

Article d'actualité Batteries miniatures nomades : nouveau design 3D
14 Octobre 2016
Batteries miniatures nomades : nouveau design 3D

Dans la course à la miniaturisation, une équipe franco-américaine a réussi à améliorer la densité d'énergie d'une batterie sans en augmenter la taille. Cette...

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