Logo ETI Quitter la lecture facile

Mieux nous connaître

Partenariat avec la communauté française de l’ALD

Posté le par gabrielle lancien dans Entreprises et marchés

Le réseau des acteurs français de l’ALD (Atomic Layer Deposition) – RAFALD – qui regroupe experts académiques et industriels dans le domaine des procédés de dépôt de couches minces atomiques, a fait appel à nous pour éditer un ouvrage collectif sur les différents aspects des procédés ALD et leurs spécificités dans chaque domaine d’applications. Ce numéro spécial a été distribué à l’occasion du prochain colloque organisé du 14 au 16 novembre 2016.

Savez-vous que nous disposons d’une gamme complète de prestations pour l’édition et la publication de vos contenus : actes de conférences, annuaires, guides, supports de communication, livres blancs, lettres d’information, ressources pédagogiques, etc. ?

Si vous souhaitez recevoir une offre adaptée à vos besoins, n’hésitez pas à nous contacter : edito@teching.com.

>> Télécharger la lettre des éditeurs au format PDF

Posté le par gabrielle lancien


Réagissez à cet article

Commentaire sans connexion

Pour déposer un commentaire en mode invité (sans créer de compte ou sans vous connecter), c’est ici.

Captcha

Connectez-vous

Vous avez déjà un compte ? Connectez-vous et retrouvez plus tard tous vos commentaires dans votre espace personnel.

INSCRIVEZ-VOUS
AUX NEWSLETTERS GRATUITES !