La technologie HiPIMS bipolaire (bipolar High-Power Impulse Magnetron Sputtering) a récemment suscité un grand intérêt car elle permet de contrôler l’énergie des ions intervenant dans la formation de films minces fonctionnels. Cet article propose, premièrement, d’aborder les topologies de circuits électroniques communément utilisées dans un tel procédé ainsi que la problématique de la gestion des...
Les articles Recherche et Innovation présentent des technologies en cours de développement, émergentes, qui n'ont pas encore atteint leur pleine maturité pour un développement industriel mais sont prometteuses.
de procédés plasma (source, transport, méthodes de dépôt), des différentes techniques de mise en vapeur... des réactions à la surface. Dans la plupart des applications, les plasmas s’étendent de la source de vapeur... cathode plasma source BOLT (H.), BUURON (A.), KOCH (F.), NOETHE (M.) - Experiments and modelling of... discharge BARÁNKOVÁ (H.), BÁRDOŠ (L.) - Hollow cathode atmospheric pressure plasma sources for surface...
Les articles de référence permettent d'initier une étude bibliographique, rafraîchir ses connaissances fondamentales, se documenter en début de projet ou valider ses intuitions en cours d'étude.
utilisés pour l’ALD est faible et dépend de la source plasma ; typiquement il est de quelques pourcents... de réacteurs plasma pour assister l’ALD. Deux utilisent une source inductive tandis que le troisième utilise... une source capacitive. Radical Enhanced ALD Dans ce type de réacteur, on utilise une source plasma... déportée. Ce plasma est généralement créé à partir d’une source inductive (13,56 MHz par exemple) ou micro...
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