Transistors partiellement déplétés
Technologie silicium sur isolant (SOI)

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Transistors partiellement déplétés
Technologie silicium sur isolant (SOI)

Auteur(s) : Sorin CRISTOLOVEANU, Francis BALESTRA

Relu et validé le 13 janvier 2021 | Read in english

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6. Transistors partiellement déplétés

Dans le cas des transistors MOS/SOI partiellement déplétés, la charge de déplétion contrôlée par une ou deux grilles ne s'étend pas d'une interface à l'autre. Une région neutre subsiste et, par conséquent, les effets de couplage d'interface sont supprimés. Quand la couche de silicium est à la masse (via des contacts indépendants sur le film de silicium ou des connexions directes source/film), les composants SOI partiellement déplétés se comportent de façon similaire à ceux fabriqués sur silicium massif. La plupart des équations I DS ( V GS , V DS ) et des concepts d'architecture conventionnels peuvent être appliqués. Si les contacts au film ( body contacts...

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