1. Dépôt en couches moléculaires (MLD) : principes généraux, matériaux
et applications
HAUT DE PAGE
1.1.1 Définition et différences avec l’ALD
Le procédé MLD est une technique de croissance de couches minces
en phase vapeur, autolimitante, analogue au procédé ALD. Il repose
sur des réactions de surface séquentielles et autolimitées, mais au
lieu de former des réseaux atomiques inorganiques, la chimie de surface
conduit à la formation de chaînes polymériques ou de structures organiques
réticulées à la surface du substrat.
De manière similaire à l’ALD, le procédé MLD s’effectue...
Cet article est réservé aux abonnés
Cet article est réservé aux abonnés. Il vous reste 92 % à découvrir.
Déjà abonné ?
Se connecter
Lecture en cours
Dépôt en couches moléculaires (MLD) : principes généraux, matériaux et applications
Sources bibliographiques
-
(1) - KUBONO (A.), YUASA (N.), SHAO (H.L.), UMEMOTO
(S.), OKUI (N.) -
In-situ study
on alternating vapor deposition polymerization of alkyl polyamide
with normal molecular orientation
.
-
Thin
Solid Films,
289
, p. 107-111 (1996)....
Cet article est réservé aux abonnés
Cet article est réservé aux abonnés. Il vous reste 92 % à découvrir.
Déjà abonné ?
Se connecter