Dépôt en couches moléculaires (MLD) : principes généraux, matériaux et applications
Atomic/Molecular Layer Deposition (ALD/MLD) : matériaux organiques et hybrides inorganiques-organiques – Principes généraux et applications

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RE298 V1 Article de référence

Dépôt en couches moléculaires (MLD) : principes généraux, matériaux et applications
Atomic/Molecular Layer Deposition (ALD/MLD) : matériaux organiques et hybrides inorganiques-organiques – Principes généraux et applications

Auteur(s) : Thi Truc Mai NGUYEN, Abderrahime SEKKAT, Clémence BADIE, Alexandra FATEEVA, Catherine MARICHY

Date de publication : 2 octobre 2026

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1. Dépôt en couches moléculaires (MLD) : principes généraux, matériaux et applications

1.1 Introduction au MLD

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1.1.1 Définition et différences avec l’ALD

Le procédé MLD est une technique de croissance de couches minces en phase vapeur, autolimitante, analogue au procédé ALD. Il repose sur des réactions de surface séquentielles et autolimitées, mais au lieu de former des réseaux atomiques inorganiques, la chimie de surface conduit à la formation de chaînes polymériques ou de structures organiques réticulées à la surface du substrat.

De manière similaire à l’ALD, le procédé MLD s’effectue...

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