Nécessité d’un cadre de calcul intensif
Comprendre l’ALD par la modélisation

Ajouter à la bibliothèque

RE259 V2 Article de référence

Nécessité d’un cadre de calcul intensif
Comprendre l’ALD par la modélisation

Auteur(s) : Alain ESTÈVE, Brigitte CAUSSAT

Date de publication : 10 septembre 2026

Ajouter à la bibliothèque Ajouter à la bibliothèque

Logo Techniques de l'Ingenieur Cet article est réservé aux abonnés
Pour explorer cet article plus en profondeur Consulter un extrait gratuit

Déjà abonné ?

2. Nécessité d’un cadre de calcul intensif

Qu’il s’agisse de résoudre l’équation de Schrödinger gouvernant les interactions interatomiques, ou de réaliser des simulations couplées de chimie hétérogène et d’écoulements réactifs, le recours au calcul intensif est indispensable. Ces ressources, des moyens locaux aux centres de calcul haute performance, s’inscrivent dans une organisation structurée par le paradigme du Materials Genome Initiative (MGI), lancé en 2011 pour accélérer la découverte et le développement des matériaux par l’intégration du calcul, des données et de l’expérimentation. Associée à l’optimisation des algorithmes et à l’articulation multi-échelle des modèles, la simulation numérique est devenue un outil central pour décrire la chimie de surface, la croissance des couches et le comportement global des procédés. Les développements actuels reposent notamment sur le calcul...

Cet article est réservé aux abonnés
Logo Techniques de l'Ingenieur

Cet article est réservé aux abonnés. Il vous reste 92 % à découvrir.

Cet article est réservé aux abonnés Consulter un extrait gratuit

Déjà abonné ?


Article inclus dans l'offre

"Innovations technologiques"

( 235 articles )

Une base complète d’articles

Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques.

Services

Quiz, médias, tableaux, formules, vidéos, etc.

Des modules pratiques

Opérationnels et didactiques, pour garantir l'acquisition des compétences transverses.

Des avantages inclus

Un ensemble de services exclusifs en complément des ressources.

Voir le détail de l'offre

Dans les ressources documentaires

ALD en microélectronique - Évolution, et utilisation dans les micro et les nano-dispositifs avancés

Cet article est une revue de l’utilisation du dépôt par couches atomiques dans le secteur de la microélec...

Encapsulation des diodes organiques électroluminescentes et microbatteries par ALD

Le problème des diodes électroluminescentes organiques (OLED) et des microbatteries à base d’une technolo...

Dépôt par ablation laser pulsé

Cet article est une revue de la technique de dépôt en couche mince par ablation laser pulsé ou  Puls...

Plans d’expériences et traitements de surface - Méthodologie des surfaces de réponses (MSR)

Cet article s'attarde, à travers des exemples de traitements de surface, à présenter l’intérêt des plans ...

Tous les livres blancs
Toutes les actualités

Inscrivez-vous aux newsletters !

Contactez-nous