Conclusions
Un nouveau réacteur de dépôt électrolytique pour les microsystèmes

6.1 Conclusion sur le dépôt de Co90Fe10

Une synthèse comparée des résultats obtenus dans le réacteur standard et dans le réacteur à cône régulier est présentée dans le tableau 5. Ces résultats sont également à comparer avec les objectifs initiaux du projet, présentés dans la dernière colonne du tableau.

On constate que la vitesse de dépôt a été multipliée par deux entre le réacteur standard et le RCR. On se situe, avec ce dernier, dans les spécifications fixées à l’origine du projet (0,1 µm/min). Pour ce qui concerne l’uniformité du dépôt, elle a été améliorée d’un facteur dix entre les deux réacteurs (de 18 % à 1,7 %). De plus, l’objectif initial pour cette uniformité (3 %) a été largement dépassé.

Au niveau de la composition de l’alliage, on peut noter que l’objectif de 10 % de fer dans l’alliage n’a pas été atteint. Toutefois, une adaptation des paramètres de dépôt ou de la composition du bain doit permettre de compenser cette déplétion en fer. L’aspect le plus important de la composition de l’alliage est, comme pour l’épaisseur du dépôt, son uniformité. À ce niveau, on peut noter qu’elle a été nettement améliorée par le passage dans le RCR (de 2,6 % à 1,6 %). Ces deux valeurs étaient déjà conformes aux objectifs techniques initiaux.

La rugosité du dépôt a été améliorée par le passage dans le nouveau réacteur. Elle a été diminuée de façon notable (3,0 nm à moins de 2,0 nm) et correspond, de ce fait, aux valeurs visées initialement (2,0 nm).

D’un point de vue plus général, on peut également constater que la souplesse et l’adaptabilité du réacteur ont été améliorées : il est en effet possible, dans la version du RCR adaptée aux wafers de 200 mm de diamètre, de traiter également des wafers de 100 et 150 mm. On peut également noter la capacité du RCR à accueillir des procédés aussi différents que les dépôts de CoFe, Ni, Cu et FeNi (liste non exhaustive des matériaux traités à ce jour). De plus, la reproductibilité des procédés a également été...