5. Conclusion
La technique ALD s’affirme comme une technologie clé pour l’encapsulation de dispositifs sensibles, offrant des solutions adaptées à des exigences de barrière aux gaz toujours plus strictes. Grâce à sa précision nanométrique, sa conformité sur des substrats complexes et sa compatibilité avec des matériaux sensibles à la température, l’ALD permet d’atteindre des performances allant jusqu’à l’ultra-haute barrière (UHB). Cependant, son déploiement industriel reste confronté à des défis majeurs, notamment en termes de vitesse de dépôt, de stabilité mécanique sous sollicitations, et de résistance aux environnements agressifs (humidité, polluants). Les nanolaminés inorganique/organique, se révèlent particulièrement prometteurs pour concilier performances barrières, flexibilité et durabilité. Les avancées récentes dans les procédés ALD ouvrent aussi la voie à une industrialisation à grande échelle,...
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