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Auteur(s)
-
Guy ROMMEL : Ingénieur de l’École Supérieure d’Électricité - Ingénieur au Commissariat à l’Énergie Atomique, Laboratoire National Saturne
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Lire l’articleINTRODUCTION
La conception d’une installation sous vide exige en premier lieu de bien poser le problème à résoudre. S’agit-il de pomper un flux gazeux en provenance de l’extérieur ou d’une réaction se produisant à l’intérieur de l’enceinte ? Ou bien faut-il atteindre une pression donnée en un temps donné ? Suivant les cas, l’installation à adopter sera différente.
De toute façon, une bonne connaissance des phénomènes liés à la technique du vide nous paraît indispensable. La lecture des articles de cette rubrique, [B 4 010] et suivants, s’avérera utile pour la réalisation des enceintes et pour connaître les dispositions et les précautions à prendre.
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3. Descente en pression
Dans toute installation sous vide, il y a toujours un transfert de gaz, c’est-à-dire de molécules, celles-ci en bout de course étant soit rejetées à l’atmosphère, soit absorbées par une pompe.
Le flux gazeux qG est donné par :
avec :
- ΦD :
- flux de désorption
- ΦF :
- flux provenant des fuites éventuelles
- ΦP :
- flux dû à la perméation
- ΦE :
- flux provenant d’une source externe (par exemple, une enceinte munie d’une source d’ions alimentée par une bouteille de gaz à travers un robinet)
- ΦR :
- flux provenant d’un traitement quelconque fait dans l’enceinte et sous vide (par exemple, le dessèchement de matériels, la fusion d’aciers spéciaux, etc.).
Les flux ΦE et ΦR sont des flux imposés par le but à atteindre. Nous les symboliserons par :
Le flux ΦF dû aux fuites dans une enceinte bien réalisée et montée correctement doit être nul ou plutôt inférieur à la sensibilité du détecteur de fuites employé (cf. article Nature et qualité du vide. Contamination Nature et qualité du vide- Contamination).
Le flux ΦP dû à la perméation provient des matériaux utilisés (joint en élastomère, membrane mince, etc.).
Au-dessous de 10 Pa, les deux flux ΦF et ΦP peuvent...
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