3. ASD : exemples d’applications industrielles
3.1 ASD pour le remplissage de tranchées profondes à fort rapport d’aspect
Le remplissage sans défauts de structures à fort rapport d’aspect (gap filling), est un enjeu majeur dans la fabrication de dispositifs avancés nanoélectroniques. Dans des rainures étroites et profondes, les techniques classiques de dépôt (CVD, ou par voie physique PVD) peuvent générer des défauts de remplissage tels que des vides ou des joints. Ces défauts résultent essentiellement de la diffusion limitée des précurseurs dans le fond de ces structures ainsi que de la formation de surplomb de matière (overhang), par une croissance plus rapide à l’entrée des tranchées.
L’équipementier Applied Materials a développé une plateforme industrielle (Centura iSprint ALD/CVD SSW (Seam-Suppressed Tungsten))...
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ASD : exemples d’applications industrielles
Perspectives et évolution
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