Phénomène d'hystérésis diélectrique
Traitement thermique uniforme par hystérésis diélectrique des composites

INTRODUCTION

1 - UNIFORMITÉ THERMIQUE SPATIALE

• 1.1 - Traitement thermique uniforme
• 1.2 - Condition fondamentale de l'obtention de l'uniformité thermique spatiale
• 1.3 - Caractéristiques temporelles : du double objectif à l'objectif réel
• 1.4 - Non-uniformités électromagnétiques et leurs échelles dimensionnelles
• 1.5 - Remarques – Discussion. Conception basée sur les caractéristiques des produits et de leurs transformations

2 - CRÉATION DE SOURCES THERMIQUES UNIFORMES

• 2.1 - Rappels simplifiés de propagation électromagnétique en milieu guidé
• 2.2 - Structure des applicateurs d'énergie électromagnétique et uniformité spatiale
• 2.3 - Applicateurs symétriques à alimentations électromagnétiques alternées
• 2.4 - Approche théorique de l'applicateur diélectrique à rendement élevé
• 2.5 - Applicateurs à compensation ou inversion diélectrique d'atténuation
• 2.6 - Remarques – Discussion

3 - PHÉNOMÈNE D'HYSTÉRÉSIS DIÉLECTRIQUE

• 3.1 - Interaction onde électromagnétique-matière condensée
• 3.2 - Caractéristiques diélectriques des matériaux
• 3.3 - Constante de temps de la relaxation diélectrique et température

4 - EXEMPLES D'APPLICATIONS INDUSTRIELLES

• 4.1 - Équipement pour l'élaboration de profilés en élastomère
• 4.2 - Équipement de validation de l'élaboration de profilés à âme métallique
• 4.3 - Équipement pour la mise en température de résine réactive en contenant unitaire
• 4.4 - Équipement pour la mise en température d'un composite réactif sous presse
• 4.5 - Équipement de laboratoire créant l'uniformité par inversion de l'atténuation

5 - CONCLUSION