Innovations technologiques

Les dernières parutions de cette offre sont :

• 10 octobre 2026

  RE254

  Technologies de réacteurs pour le dépôt par couche atomique : fondements, sous-systèmes et configurations

  Dans cet article, nous passons en revue les différents types de réacteurs développés pour réaliser le dépôt par couche atomique (ALD). Le réacteur le plus adapté à une application donnée dépend de plusieurs critères, parmi lesquels le type de substrat, l’environnement d’exploitation, la chimie du procédé de dépôt et la finalité du réacteur. Une grande variété de substrats sont revêtus par ALD, tels que les plaquettes de silicium pour la microélectronique, les éléments photovoltaïques, les batteries, les pièces mécaniques, les éléments optiques (lentilles et miroirs) et les substrats flexibles, entre autres.

• 2 octobre 2026

  RE298

  Atomic/Molecular Layer Deposition (ALD/MLD) : matériaux organiques et hybrides inorganiques-organiques – Principes généraux et applications

  Découvrez les principes fondamentaux du procédé de dépôt en couches moléculaires (MLD), permettant d’obtenir des films organiques et hybrides inorganiques-organiques à l'échelle nanométrique.

• 2 octobre 2026

  RE290

  ALD pour l'électronique du futur

  La maîtrise de la matière à l’échelle atomique est essentielle pour le développement de l’électronique de future génération. Découvrez des exemples de mise à profit du dépôt par couches atomiques (ALD) pour la spintronique, pour les supraconducteurs, pour les qubits et pour les matériaux bidimensionnels.

• 24 septembre 2026

  RE264

  Dépôt sélectif par zone - ASD

  Découvrez le dépôt sélectif par zone, une technique permettant de déposer un matériau uniquement sur certaines zones d’un substrat, sans passer par des étapes de photolithographie et de gravure. Sa sélectivité vis-à-vis de la chimie de surface est un point-clef de sa mise en œuvre.

• 24 septembre 2026

  RE261

  Barrières à l’environnement par ALD

  Savez-vous que la technologie de dépôt par couche atomique (ALD) peut protéger les semi-conducteurs organiques ou inorganiques de la dégradation par les gaz oxydants de l’atmosphère ? En effet, elle permet le dépôt sur ces circuits de films barrières sans défaut.

• 24 septembre 2026

  RE259

  Comprendre l’ALD par la modélisation

  Découvrez une démarche de simulation permettant d’approcher, à une granulométrie atomistique, les mécanismes élémentaires mis en jeu lors des procédés ALD. Cette méthode de choix reste cependant difficile à mettre en œuvre.

• 18 septembre 2026

  RE282

  ALD pour le stockage électrochimique de l'énergie

  Les accumulateurs au lithium sont omniprésents dans notre quotidien. Pour répondre à l’instabilité des matériaux lithiés à l’air qui limite leur durée de vie, une piste s’offre : le dépôt par couche atomique (ALD), grâce auquel on peut former de fines couches de protection sur les composants de la batterie.

• 18 septembre 2026

  RE255

  ALD en microélectronique - Évolution, et utilisation dans les micro et les nano-dispositifs avancés

  L’utilisation du dépôt par couches atomiques est de plus en plus répandue dans le secteur de la microélectronique. Découvrez les évolutions récentes de cette technique, notamment une plus large gamme de composition des films et différentes solutions pour améliorer la rentabilité de ces procédés.

• 7 septembre 2026

  RE262

  Dépôt par Couche Atomique spatiale (SALD)

  Découvrez les principes fondamentaux de l’ALD spatiale. Cette technique de dépôt de couches minces présente de nombreux atouts et une grande flexibilité de conception, notamment la possibilité de déposer à la pression atmosphérique et le développement aisé à grande échelle.

• 7 septembre 2026

  RE257

  ALD pour le photovoltaïque

  Découvrez comment la technologie des dépôts de couches minces ALD répond aux besoins du photovoltaïque. Les performances des couches de passivation d’alumine déposées par ce procédé ouvrent sur ce marché de nouvelles perspectives d’applications commerciales.

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