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Caractérisation des nano-objets| Réf : NM7050 v1
Auteur(s) : Sébastien DUCOURTIEUX, Benoît POYET
Date de publication : 10 août 2013
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La nano-imagerie par microscopie optique en champ procheQue contient cette offre ? Une offre 100% en ligne
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Depuis 2007, le LNE (Laboratoire national de métrologie et d’essais), qui est l’Institut National de Métrologie français, développe son propre AFM métrologique. Cet instrument de référence permettra à terme de proposer, en France, des solutions d’étalonnage pour les structures de référence utilisées principalement en microscopie champ proche mais aussi en microscopie électronique. Le LNE a choisi de développer intégralement ce mAFM afin de rester maître des choix de conception qui conditionnent la maîtrise de l’incertitude de mesure.
5.1 Cahier des charges de l’AFM métrologique du LNE
Ce mAFM est dédié à la mesure dimensionnelle de haute exactitude et à l’étalonnage d’étalons de transfert de dimensions maximales 25 mm x 25 mm x 7 mm. Afin de réaliser des mesures dimensionnelles directement traçables, il met en œuvre des interféromètres dont la source laser est étalonnée en longueur d’onde. Ces interféromètres mesurent en temps réel la position relative de la pointe par rapport à l’échantillon. Ainsi, pour chaque point de l’image topographique, les coordonnées XYZ sont raccordées au SI. La gamme de déplacement est 60 µm x 60 µm x 15 µm suivant les axes XYZ. L’incertitude recherchée pour la mesure de la position relative de la pointe par rapport à l’échantillon est de l’ordre du nanomètre. Cette incertitude ne prend pas en compte les contributions liées à la pointe (forme de la pointe, interaction pointe/surface, déformation de la pointe ou de la surface, usure...). La conception de cet instrument a pour objectif principal de réduire les principales sources d’incertitudes couramment constatées sur ce type d’instrument. Ainsi, elle s’organise autour de quatre axes principaux : (i) la minimisation de l’erreur d’Abbe, (ii) l’optimisation des mesures interférométriques réalisées dans l’air, (iii) la maîtrise des effets thermiques durant la mesure et (iv) l’optimisation de la chaîne métrologique. L’ensemble de ces contributions est regroupé dans un bilan d’incertitude qui caractérise pleinement l’AFM métrologique et qui permet de calculer l’incertitude de mesure associée à cet instrument. L’étude complète de cet instrument de référence...
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NANOSCIENCES ET NANOTECHNOLOGIES
(1) - The Royal Society & The Royal Academy of Engineering - Nanoscience and nanotechnologies : opportunities and uncertainties - http://www.nanotec.org.uk/finalReport.htm (juillet 2004).
(2) - TODUA (P.-A.) - Metrology and standardization in nanotechnologies and the nanoindustry - Meas. Tech. Vol 51, N° 5, 462-469 (2008).
(3) - SCHRURS (F.), LISON (D.) - Focusing the research efforts - Nature Nanotechnology, vol. 7 (septembre 2012).
(4) - Nanometrology - Smart Materials Bulletin, vol. 4, 7-10 (avril 2002).
(5) - Bureau international des poids et mesures (BIPM) - Le Système international d’unités - 8e édition (2006).
(6) - * - Comptes Rendus de la 17e CGPM (1983), 97 (1984).
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