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Fibres monocristallines - Procédé de tirage par (µ-PD) et applicationsArticle de référence | Réf : E6308 v1
Auteur(s) : Gurvan BRASSE, Patrice CAMY
Date de publication : 10 oct. 2018
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Optique Photonique (217 articles en ce moment)
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1.1 État de l’art et tour d’horizon des principales techniques d’élaboration
Depuis les années 1970, de nombreux matériaux ont été élaborés sous la forme de couches minces et en parallèle de nombreuses techniques d’élaboration ont été développées. Dresser un état de l’art des différents matériaux synthétisés sous forme de couches minces revient également à faire un tour d’horizon des différentes technologies mises en œuvre. Ainsi, sans développer le cas des semiconducteurs, ce qui n’est pas l’objet de cet article, il est important de mentionner que les toutes premières couches minces ont été réalisées par la technique d’épitaxie en phase liquide et qu’il s’agissait de semiconducteurs tels que GaAs, InP et GaAlAs pour la fabrication des toutes premières diodes laser. Cette technique de cristallogenèse a depuis pris de l’importance dans les avancées et les diverses innovations en photonique, à travers l’utilisation de divers matériaux semiconducteurs, mais aussi celle de matériaux diélectriques, comme nous le détaillons plus loin dans cette première partie.
Parmi les autres techniques phares de dépôt/croissance existantes pour l’élaboration de couches minces diélectriques, citons :
les méthodes de dépôt en phase vapeur (CVD), qui sont largement utilisées pour l’élaboration de couches minces semiconductrices, mais aussi diélectriques. Leur principe est d’élaborer un matériau, pouvant être amorphe ou cristallin, à partir de sources gazeuses décomposées au contact avec un substrat porté à une température adaptée. Ces méthodes peuvent être classées en fonction de certains critères, tels que la pression à laquelle se déroule la croissance, le mode de chauffage du substrat, les caractéristiques physiques du réactif et les moyens utilisés pour initier le dépôt. On peut également citer les techniques MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), APCVD (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition), LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition), UHVCVD (Ultra High Vacuum Chemical Vapor Deposition), RTCVD (Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition), sans être exhaustif, car il existe de nombreuses variantes de la technologie CVD. La...
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OPTIQUE PHOTONIQUE
(1) - LECOEUR (P.), KORZENSKI (M.B.), AMBROSIN (A.), MERCEY (B.), CAMY (P.), DOUALAN (J.)L.) - * - Appl. Surf. Sci., 186, p. 403-407 (2002).
(2) - GRIVAS (C.), MAY-SMITH (T.C.), SHEPHERD (D.P.), EASON (R.W.) - * - Opt. Comm., 229, p. 355-361 (2004).
(3) - VAINOS (N.A.), GRIVAS (C.), FOTAKIS (C.), EASON (R.W.), AANDERSON (A.A.), GILL (D.S.), SHEPHERD (D.P.), JELINEK (M.), LANCOK (J.), SONSKY (J.) - * - Appl. Surf. Sci., 127, p. 514-519 (1998).
(4) - BAUSA (L.E.), LIFANTE (G.), DARAN (E.), PERNAS (P.L.) - * - Appl. Phys. Lett., 68(23), p. 3242-3244 (1996).
(5) - BHUTTA (T.), CHARDON (A.M.), SHEPHERD (D.P.), DARAN (E.), SERRANO (C.), MUNOZ-YAGUE (A.) - * - IEEE Jour. Quant. Elec., 37(11), p. 1469-1477 (2001).
(6) - BRINCKER (J.), SCHERRER (G.W.) - Sol-gel...
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