Article de référence | Réf : RE255 v1

Dépôt PEALD modifié pour l’augmentation de la cinétique de croissance de Ta2O5
ALD en microélectronique - Applications, équipements et productivité

Auteur(s) : Mickael GROS-JEAN, Arnaud MANTOUX

Date de publication : 10 nov. 2016