Conclusion
Nanophotolithographie en champ proche

À travers de nombreux exemples, nous avons vu qu'il était possible de photostructurer la matière à une échelle nanométrique non limitée par la longueur d'onde de la lumière. Les processus d'interaction entre la lumière et la matière sont à cette échelle très nombreux et impliquent souvent des effets thermiques locaux. Ce domaine très récent (la plupart des articles cités dans ce dossier datent de moins de 10 ans) a permis de progresser considérablement dans la connaissance des matériaux et dans la mise au point de nanosources optiques performantes. Réciproquement, les progrès rapides de la nano-optique  permettent de développer des nanosources adaptées à la nanophotostructuration. Les objectifs de nanophotolithographie en champ proche ne doivent pas être vus comme concurrentiels de ceux de l'ITRS qui a privilégié la diminution de la longueur d'onde. Il s'agit plutôt d'une approche complémentaire appréciée par son faible coût et sa facilité de mise en œuvre. En particulier, la lumière visible et son état de polarisation peuvent être exploités. Par ailleurs, les applications visées vont bien au-delà du domaine de la microélectronique puisqu'elles concernent aussi bien le stockage optique haute densité que la manipulation de molécules. La lithographie optique en champ proche pourrait aussi être utilisée comme un des maillons d'une chaîne complexe de nanostructuration. Par exemple, le moule, ou « timbre » utilisé en nanoimprint  pourrait être fabriqué par lithographie optique en champ proche. Le futur de cette méthode est sans doute très prometteur. Concernant l'approche « pointe », on sait que l'on peut maîtriser le travail simultané de centaines de pointes disposées en matrice ...