Lithographie optique : enjeux et challenges
Nanophotolithographie en champ proche
NM556 v1 Article de référence

Lithographie optique : enjeux et challenges
Nanophotolithographie en champ proche

Auteur(s) : Renaud BACHELOT

Date de publication : 10 oct. 2007 | Read in English

Logo Techniques de l'Ingenieur Cet article est réservé aux abonnés
Pour explorer cet article plus en profondeur Consulter l'extrait gratuit

Déjà abonné ?

Présentation

1 - Contexte

2 - Lithographie optique : enjeux et challenges

3 - Exploitation de l'optique de champ proche

4 - Nanophotolithographie en champ proche

5 - Conclusion

Sommaire

Présentation

RÉSUMÉ

L’exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d’onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d’écriture. Les applications visées vont bien au-delà du domaine de la microélectronique puisqu’elles concernent aussi bien le stockage optique haute densité que la manipulation de molécules.

Lire cet article issu d'une ressource documentaire complète, actualisée et validée par des comités scientifiques.

Lire l’article

Auteur(s)

INTRODUCTION

L'exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d'onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d'écriture.

Logo Techniques de l'Ingenieur

Cet article est réservé aux abonnés.
Il vous reste 93 % à découvrir.

Pour explorer cet article Consulter l'extrait gratuit

Déjà abonné ?


DOI (Digital Object Identifier)

https://doi.org/10.51257/a-v1-nm556

Article inclus dans l'offre

"Nanosciences et nanotechnologies"

(148 articles)

Une base complète d’articles

Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques.

Des contenus enrichis

Quiz, médias, tableaux, formules, vidéos, etc.

Des modules pratiques

Opérationnels et didactiques, pour garantir l'acquisition des compétences transverses.

Des avantages inclus

Un ensemble de services exclusifs en complément des ressources.

Voir l'offre

2. Lithographie optique : enjeux et challenges

La lithographie optique, aussi appelée photolithographie, est indiscutablement la méthode principale de fabrication de masse des circuits de la microélectronique. Elle consiste à graver sur un polymère photosensible des motifs à reproduire (circuits). Ce motif polymère est ensuite transféré sur le wafer de silicium sur lequel a été préalablement déposée la fine couche de polymère. Depuis les années 1970, cette technique a connu un certain nombre d'évolutions, décrites en détail dans la référence . Ces évolutions ont concerné :

  • la longueur d'onde de la lumière ;

  • les performances de la résine photosensible (matériaux, techniques de développement...) ;

  • la géométrie d'éclairage.

Les motivations sont nombreuses car la lithographie optique a permis de satisfaire trois conditions importantes : haute résolution, grande surface et faible coût. Concernant la géométrie d'éclairage, la figure 1 illustre la configuration la plus utilisée.

Elle consiste à projeter via un objectif à forte ouverture numérique, le motif d'un masque sur la surface de la résine photosensible.

Concernant la résolution, celle-ci est fondamentalement limitée, par le phénomène diffraction à une expression, connue sous l'appellation « limite d'Abbe », du nom du physicien Allemand qui a beaucoup travaillé sur la résolution de la microscopie optique et qui est à l'origine du développement des objectifs de microscopes modernes. Cette limite est λ/2nλ est la longueur d'onde de la lumière et n est l'indice de réfraction du milieu de propagation de la lumière.

Trois voies ont été explorées pour gérer cette limite.

i) La principale est la diminution de la longueur d'onde (cf. (Nano)structuration douce de surfaces...

Logo Techniques de l'Ingenieur

Cet article est réservé aux abonnés.
Il vous reste 93 % à découvrir.

Pour explorer cet article Consulter l'extrait gratuit

Déjà abonné ?


Lecture en cours
Lithographie optique : enjeux et challenges

Article inclus dans l'offre

"Nanosciences et nanotechnologies"

(148 articles)

Une base complète d’articles

Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques.

Des contenus enrichis

Quiz, médias, tableaux, formules, vidéos, etc.

Des modules pratiques

Opérationnels et didactiques, pour garantir l'acquisition des compétences transverses.

Des avantages inclus

Un ensemble de services exclusifs en complément des ressources.

Voir l'offre

Sommaire
Sommaire

BIBLIOGRAPHIE

  • (1) - Bulletin MRS (Materials Research Society) -   Fabrication of sub-45 nm structures for the next generation of devices.  -  Vol. 30, n˚ 12, déc. 2005.

  • (2) - RONSE (K.) -   Optical lithography – a historical perspective.  -  C. R. Physique, doi : 10.1016/j.chry.2006.10.007 (2006).

  • (3) - SWITKES (M.), ROTHSCHILD (M.), KUNZ (R.R.), BAEK (S.-Y.), COLES (D.), YEUNG (M.) -   Immersion lithography : Beyond the 65 nm node with optics.  -  Microlithography World, p. 4, mai 2003.

  • (4) - COURJON (D.) -   Near-field microscopy and near-field optics.  -  Imperial College Press, Londre (2003).

  • (5) - NOVOTNY (L.), HECHT (B.) -   Principles of Nanooptics.  -  Cambridge Press (2007).

  • (6) - LOURTIOZ (J.M.), TCHELNOKOV (A.) -   Nanophotonique et Micro-Nanotechnologies.  -  Techniques de l'ingénieur. Nanotechnologies...

Logo Techniques de l'Ingenieur

Cet article est réservé aux abonnés.
Il vous reste 92 % à découvrir.

Pour explorer cet article Consulter l'extrait gratuit

Déjà abonné ?


Article inclus dans l'offre

"Nanosciences et nanotechnologies"

(148 articles)

Une base complète d’articles

Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques.

Des contenus enrichis

Quiz, médias, tableaux, formules, vidéos, etc.

Des modules pratiques

Opérationnels et didactiques, pour garantir l'acquisition des compétences transverses.

Des avantages inclus

Un ensemble de services exclusifs en complément des ressources.

Voir l'offre