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Caractérisation des fibres optiques et des réseaux par réflectométrieArticle de référence | Réf : NM556 v1
Auteur(s) : Renaud BACHELOT
Date de publication : 10 oct. 2007
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Nanophotonique et micro-nanotechnologiesCet article fait partie de l’offre
Optique Photonique (218 articles en ce moment)
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À travers de nombreux exemples, nous avons vu qu'il était possible de photostructurer la matière à une échelle nanométrique non limitée par la longueur d'onde de la lumière. Les processus d'interaction entre la lumière et la matière sont à cette échelle très nombreux et impliquent souvent des effets thermiques locaux. Ce domaine très récent (la plupart des articles cités dans ce dossier datent de moins de 10 ans) a permis de progresser considérablement dans la connaissance des matériaux et dans la mise au point de nanosources optiques performantes. Réciproquement, les progrès rapides de la nano-optique permettent de développer des nanosources adaptées à la nanophotostructuration. Les objectifs de nanophotolithographie en champ proche ne doivent pas être vus comme concurrentiels de ceux de l'ITRS qui a privilégié la diminution de la longueur d'onde. Il s'agit plutôt d'une approche complémentaire appréciée par son faible coût et sa facilité de mise en œuvre. En particulier, la lumière visible et son état de polarisation peuvent être exploités. Par ailleurs, les applications visées vont bien au-delà du domaine de la microélectronique puisqu'elles concernent aussi bien le stockage optique haute densité que la manipulation de molécules. La lithographie optique en champ proche pourrait aussi être utilisée comme un des maillons d'une chaîne complexe de nanostructuration. Par exemple, le moule, ou « timbre » utilisé en nanoimprint pourrait être fabriqué par lithographie optique en champ proche. Le futur de cette méthode est sans doute très prometteur. Concernant l'approche « pointe », on sait que l'on peut maîtriser le travail simultané de centaines de pointes disposées en matrice ...
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(1) - Bulletin MRS (Materials Research Society) - Fabrication of sub-45 nm structures for the next generation of devices. - Vol. 30, n˚ 12, déc. 2005.
(2) - RONSE (K.) - Optical lithography – a historical perspective. - C. R. Physique, doi : 10.1016/j.chry.2006.10.007 (2006).
(3) - SWITKES (M.), ROTHSCHILD (M.), KUNZ (R.R.), BAEK (S.-Y.), COLES (D.), YEUNG (M.) - Immersion lithography : Beyond the 65 nm node with optics. - Microlithography World, p. 4, mai 2003.
(4) - COURJON (D.) - Near-field microscopy and near-field optics. - Imperial College Press, Londre (2003).
(5) - NOVOTNY (L.), HECHT (B.) - Principles of Nanooptics. - Cambridge Press (2007).
(6) - LOURTIOZ (J.M.), TCHELNOKOV (A.) - Nanophotonique et Micro-Nanotechnologies. - Techniques de l'ingénieur. Nanotechnologies...
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