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Évolution de la cellule et de la matrice de mémorisation
Évolution des mémoires à semi-conducteurs à accès aléatoire
E2491 v2 Article de référence

Évolution de la cellule et de la matrice de mémorisation
Évolution des mémoires à semi-conducteurs à accès aléatoire

Auteur(s) : Philippe DARCHE

Relu et validé le 05 janv. 2021

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Présentation

1 - Modélisation d’une mémoire à semi-conducteurs

2 - Évolution de la cellule et de la matrice de mémorisation

3 - Évolution de la logique de contrôle

4 - Organisation interne évoluée

5 - Évolution de l’interface

6 - Approches liées à la technologie

7 - Vers la mémoire idéale

8 - Conclusion

9 - Glossaire

10 - Acronymes et notations

Sommaire

Présentation

RÉSUMÉ

Cet article a pour but de retracer les évolutions techniques qui ont abouti aux mémoires actuelles. Après une brève présentation des différents sous-ensembles de ce composant que sont la matrice de mémorisation, la logique de contrôle et l’interface d’entrée-sortie, leurs évolutions spécifiques sont détaillées. Le portrait de ce qui pourrait être appelée « mémoire idéale » est ensuite esquissé à partir des recherches et des réponses industrielles actuelles. En particulier, sont développés quatre composants électroniques émergents : les mémoires à changement de phase, les mémoires résistives, les mémoires ferroélectriques et les mémoires magnétorésistives (respectivement la PCRAM, la ReRAM, la FRAM et la MRAM).

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Auteur(s)

  • Philippe DARCHE : Maître de conférences à l’Institut Universitaire de Technologie (IUT) de Paris - (Université de Paris), - Chercheur au LIP6 dans l’équipe Inria DeLyS de Sorbonne Université, Paris, France

INTRODUCTION

Depuis les premières mémoires intégrées vives statiques et dynamiques de la société Intel apparues respectivement en 1969 et 1971, ces composants n’ont cessé d’évoluer en termes de capacité de stockage et de performance, principalement en temps de latence et le débit. La capacité de la mémoire dynamique est ainsi passée de 1 Kib (référence Intel 1103 – 1971) à 32 Gib (DDR4 SDRAM – 2019) et son temps de cycle a débuté à 580 ns pour arriver aux alentours de 32,5 ns (modèle DDR4-3200-20-20-32 ligne activée) pour une lecture aléatoire (mêmes références que précédemment).

L’objet de cet article est de retracer les évolutions techniques de la mémoire à semi-conducteurs. Les différents sous-ensembles de ce composant, que sont la matrice de mémorisation, la logique de contrôle périphérique et l’interface, sont d’abord présentés, puis leurs évolutions détaillées. Par ailleurs, les progrès de l’intégration font que, depuis le milieu des années 1990, il est possible d’intégrer un système informatique sur une seule puce. La mémoire qui y est intégrée se nomme mémoire embarquée, nous précisons ses avantages. Pour terminer, nous esquissons ce que serait la « mémoire idéale » à partir des recherches actuelles. Son portrait pourrait être une capacité de stockage identique à celle des mémoires « classiques », une absence de volatilité de l’information, un débit compatible avec les architectures de processeurs actuelles et une meilleure efficacité énergétique. Nous présentons en particulier trois réponses industrielles actuelles que sont les mémoires à changement de phase, ferroélectriques et magnétorésistives dont les représentants respectifs sont la PCRAM, la ReRAM, la FRAM et la MRAM.

Le lecteur trouvera en fin d'article un glossaire, un tableau des acronymes et des notations utilisés.

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https://doi.org/10.51257/a-v2-e2491

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2. Évolution de la cellule et de la matrice de mémorisation

Il faut distinguer la cellule de mémorisation de la mémoire vive de celle de la mémoire morte. Et pour la première, la technologie de fabrication de la cellule dynamique diffère complètement de celle, plus classique, de la version statique.

2.1 Cellule vive dynamique

Le principe de mémorisation est le stockage de l’information sous la forme de charges électriques dans un condensateur Cs sélectionné par un transistor de sélection Ts (cellule 1T-1C) qui le connecte à la ligne de bit (figure 2). Ce condensateur à l’origine parasite, présent entre la grille et la source d’un transistor MOS dans la cellule à trois transistors, est devenu explicite. Le pas de la règle de dessin λ diminuant avec la technologie, il a fallu garder la même valeur de capacité pour une marge de bruit acceptable. Cela s’est fait en abandonnant la technologie Planar à deux dimensions pour passer à trois dimensions par implantation du condensateur sous ou sur le transistor de sélection (technologie STC pour Stacked Capacitor Cell). Plus de détails peuvent être trouvés dans la référence .

HAUT DE PAGE

2.2 Cellule vive statique

Le principe de mémorisation est basé sur un auto-entretien de l’information à l’aide d’un circuit bistable comme le montre la figure 3.

Les progrès dans les technologies unipolaires (passage de la PMOS) (Positive (channel) Metal Oxide Semiconductor) à la NMOS (Negative (channel) MOS) puis la CMOS (Complementary MOS) ont amélioré ses caractéristiques temporelles. Le type de cellule a évolué au cours du temps (figure 4) en fonction du type de charge des transistors du bistable, résistance (cellule 2T–2R, 4T–2R) classique ou à valeur élevée (HR pour Haute Résistance) ou à transistor (version...

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BIBLIOGRAPHIE

  • (1) - DARCHE (P.) -   Architecture des ordinateurs – Mémoires à semi-conducteurs : Principe de fonctionnement et organisation interne des mémoires vives.  -  Volume 1. Éditions Vuibert. ISBN 978-2-311-00476-2 (2012).

  • (2) - SIDDIQI (M.A.) -   Dynamic RAM : Technology Advancements.  -  CRC Press. ISBN-13 978-1439893739 (2012).

  • (3) -   Low power and reliable SRAM memory cell and array design.  -  Koichiro Ishibashi and Kenichi Osada Editors. Springer Séries in Advanced Microelectronics. ISBN 978-3-642-19567-9 (2011).

  • (4) - MASUOKA (F.) et al -   A new flash E2PROM cell using triple polysilicon technology.  -  International Electron Devices Meeting (IEDM) Digest, vol. 30, p. 464-467 (1984).

  • (5) - DARCHE (P.) -   Architecture des ordinateurs – Interfaces et périphériques – Cours avec exercices corrigés.  -  Éditions Vuibert. ISBN 2-7117-4814-6 (2003).

  • ...

NORMES

  • IEEE Draft Standard for Prefixes for Binary Multiples. The Institute of Electrical and Electronics Engineers. New York, USA. - IEEE STD P1541/D5 - 2002

  • IEEE Standard for Prefixes for Binary Multiples. ISBN 0-7381-3386-8. - IEEE STD 1541-2002 -

  • IEC Letter symbols to be used in electrical technology – Part 2 : Telecommunications and electronics – Symboles littéraux à utiliser en électrotechnique – Partie 2 : Télécommunications et électronique. International Electrotechnical Commission – Édition 2.0 – Bilingual. Août 2005. - NF EN IEC 60027-2 - 2019

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