ALE plasma
Gravure par Couche Atomique ALE

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RE271 V1 Article de référence

ALE plasma
Gravure par Couche Atomique ALE

Auteur(s) : Marceline BONVALOT, Thierry CHEVOLLEAU, Rémi DUSSART, Cédric MANNEQUIN, Nicolas POSSÉMÉ, Thomas TILLOCHER, Christophe VALLÉE

Date de publication : 9 octobre 2026

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2. ALE plasma

2.1 Présentation

L’ALE plasma repose sur l’utilisation des espèces présentes au sein de plasmas froids pour le contrôle des réactions de modification et de retrait.

Les plasmas froids employés pour l’ALE sont générés à partir de gaz réactifs ou de gaz rares pour les étapes de modification, de purge et de retrait. Un plasma froid est un gaz excité et partiellement ionisé avec des degrés d’ionisation faibles, inférieurs à quelques pourcents – selon la source d’excitation et le type de réacteur utilisé. Il présente de nombreuses espèces réactives et neutres pouvant être utilisées pour un procédés ALE : des électrons, neutres, radicaux, ions positifs et négatifs, des photons de longueurs d’ondes allant du proche infrarouge au VUV (Vacuum Ultra Violet), liés à la désexcitation quasi...

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