4. Exemples d’applications
4.1 Oxydes
On parle souvent du domaine « oxide electronics » dans la littérature, ou électronique à base d’oxyde, qui vise à transformer et à dépasser les possibilités offertes par les micro- et nano-technologies des semiconducteurs type silicium, bien établies. Une revue sur ce thème est décrite dans , mais les applications potentielles de la PLD dans le monde des oxydes ne se limitent pas à ce thème.
Les oxydes sont souvent déposés par PLD sur des substrats monocristallins eux-mêmes d’oxydes. Un choix adapté de ces substrats permet d’obtenir des dépôts d’oxydes épitaxiés sur leurs substrats. La figure 11 montre les substrats oxydes couramment utilisés en fonction de leur paramètre de maille.
Les substrats oxydes monocristallins sont relativement coûteux et peu disponibles avec une grande surface, ce qui les rend moins intéressants pour les applications industrielles. La possibilité d’obtenir des films d’oxydes épitaxiés sur des substrats monocristallins de silicium ouvre la voie vers plus d’intégration des oxydes dans l’électronique (oxide electronics). La figure 12 montre un exemple de jonction tunnel épitaxiée déposée sur Si (001). Une couche de SrTiO3 (STO) d’épaisseur 3 nm joue le rôle de couche tampon sur la couche de SiOx. Les couches tampon de YSZ (zircone stabilisée à l’yttrium) et de STO sont les plus courantes et utilisées parce que beaucoup d’oxydes perovskites ne sont pas stables chimiquement sur le silicium.
Parmi les oxydes, les oxydes de type perovskite ABO3 sont beaucoup étudiés du fait de leurs propriétés intéressantes telles que la piézoélectricité, la ferroélectricité, le ferromagnétisme, la magnétorésistance, la supraconductivité, et les propriétés diélectriques....
QUIZ ET TEST DE VALIDATION PRÉSENTS DANS CET ARTICLE
