La nouvelle plateforme dédiée à la micro-nanofabrication organise le vendredi 29 juin 2012 sa première journée de promotion et de valorisation sur le campus de l’INSA de Rennes.
La plateforme Nano-Rennes, créée en 2001, consiste en la mutualisation des moyens technologiques et humains des laboratoires IETR-GM et FOTON-INSA de Rennes.
Pour la première fois, elle ouvre ses portes au public pour présenter ses équipements. Suite à cette exhibition, les visiteurs pourront découvrir les différents projets portés par Nano-Rennes.
Sa particularité est de regrouper sur un même site un fort savoir dans la croissance et la technologie associée aux filières Silicium et III-V (principalement InP). Les domaines d’excellence sont la microtechnologie pour la réalisation de capteurs (MEMS, bio-chimiques), la croissance de nanostructures quantiques (puits, fils et boîtes quantiques), la croissance de composés silicium basse température (applications TFT, MEMs), la microtechnologie photonique (lasers, micro-cavités, VCSELs), et l’intégration hétérogène et/ou homogène des filières optoélectroniques et microélectroniques (hétéroépitaxie de composés III-V sur Si) pour le développement de nouvelles fonctionnalités sur Si (lasers, MOS à forte mobilité (III-V), cellules photovoltaïques à grande efficacité).
Pour tout renseignement sur cette journée portes ouvertes : [email protected]
Par Audrey Loubens, journaliste scientifique
Réagissez à cet article
Connectez-vous
Vous avez déjà un compte ? Connectez-vous et retrouvez plus tard tous vos commentaires dans votre espace personnel.
Vous n'avez pas encore de compte ?
Inscrivez-vous !