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Article

1 - CONTEXTE

2 - LITHOGRAPHIE OPTIQUE : ENJEUX ET CHALLENGES

3 - EXPLOITATION DE L'OPTIQUE DE CHAMP PROCHE

4 - NANOPHOTOLITHOGRAPHIE EN CHAMP PROCHE

5 - CONCLUSION

Article de référence | Réf : NM556 v1

Exploitation de l'optique de champ proche
Nanophotolithographie en champ proche

Auteur(s) : Renaud BACHELOT

Date de publication : 10 oct. 2007

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RÉSUMÉ

L’exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d’onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d’écriture. Les applications visées vont bien au-delà du domaine de la microélectronique puisqu’elles concernent aussi bien le stockage optique haute densité que la manipulation de molécules.

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ABSTRACT

The use of nano-sources to induce a photostructure transformation of matter in a controlled manner, with a resolution much lower than the wavelength of light, paves the way for a promising approach to nanolithography which uses photons as a writing medium. The targeted applications go well beyond the field of microelectronics since they involve both high-density optical storage and molecular manipulation.

Auteur(s)

INTRODUCTION

L'exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d'onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d'écriture.

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DOI (Digital Object Identifier)

https://doi.org/10.51257/a-v1-nm556


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3. Exploitation de l'optique de champ proche

Avec l'avènement de la microscopie/spectroscopie optique en champ proche, suivi de celui de la nanooptique et de la nanophotonique  , l'exploitation de la lumière en champ proche s'est depuis 20 ans avérée comme une alternative élégante et prometteuse à l'obtention d'une résolution non limitée par la longueur d'onde de la lumière.

3.1 Principe

La figure 3 illustre les propriétés du champ proche optique. Lorsqu'un objet planaire (plan x,y  ) est éclairé par une onde plane, il diffracte la lumière sous la forme d'un spectre angulaire d'onde planes :

( 1 )

Cette expression est issue de la théorie de Fourrier de la diffraction, conséquence du principe d'Hyugens Fresnel, décrite avec talent par Goodman en 1968  puis Massey ...

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BIBLIOGRAPHIE

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  • (2) - RONSE (K.) -   Optical lithography – a historical perspective.  -  C. R. Physique, doi : 10.1016/j.chry.2006.10.007 (2006).

  • (3) - SWITKES (M.), ROTHSCHILD (M.), KUNZ (R.R.), BAEK (S.-Y.), COLES (D.), YEUNG (M.) -   Immersion lithography : Beyond the 65 nm node with optics.  -  Microlithography World, p. 4, mai 2003.

  • (4) - COURJON (D.) -   Near-field microscopy and near-field optics.  -  Imperial College Press, Londre (2003).

  • (5) - NOVOTNY (L.), HECHT (B.) -   Principles of Nanooptics.  -  Cambridge Press (2007).

  • (6) - LOURTIOZ (J.M.), TCHELNOKOV (A.) -   Nanophotonique et Micro-Nanotechnologies.  -  Techniques de l'ingénieur. Nanotechnologies...

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