La société Nanoscribe a amélioré sa technique de lithographie 3D laser de façon à pouvoir réaliser des structures à l’échelle nanométrique de grande hauteur.
Le DiLL. C’est le nom choisit par le nouveau procédé de prototypage mis au point par la société allemande Nanoscribe GmbH, plus précisément le Dip-in Laserlithografie. Protégé par un brevet, ce dispositif de lithographie fonctionnant par écriture laser directe permet de fabriquer des structures complexes en trois dimensions, avec une précision atteignant l’ordre du nanomètre.
Classiquement, lorsque l’intensité du laser dépasse un certain seuil, un processus d’absorption à deux photons prend place, déclenchant une réaction de photopolymérisation dans le volume focal du faisceau. Mais Nanoscribe repousse encore les limites de la photolithographie avec son nouveau système qui ouvre de nouvelles perspectives dans le domaine des réalisations 3D à l’échelle nanométrique : désormais il devient possible de créer des structures de grande hauteur.
En effet, maintenant la lentille baigne dans un liquide photorésistant qui sert aussi de matériau photosensible. De nouvelles géométries deviennent enfin accessibles, via un simple pilotage par ordinateur. Cette nouvelle prouesse technique trouve des applications en photonique, microfluidique ou encore en biologie cellulaire.
A découvrir en image (en anglais) :
Par Audrey Loubens
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