Conclusions et perspectives
Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma

Que ce soit pour les procédés de dépôts de couches minces ou de couches épaisses depuis les deux dernières décennies beaucoup de travaux ont été consacrés aux développements industriels de dépôts fonctionnels céramiques ou non. Dans les deux cas le développement de nouvelles techniques de mesure, et leurs extensions pour pouvoir les utiliser sur des installations industrielles, ont permis d'améliorer nettement la reproductibilité et la fiabilité des dépôts et donc leur usage industriel. Par exemple, pour les dépôts par projection thermique les mesures en vol (distributions de températures, vitesses, trajectoires, diamètres) des particules projetées, couplées aux dispositifs électroniques de régulation des procédés, sont disponibles depuis les années 2000. Ils permettent par exemple pour la projection plasma de compenser l'usure des électrodes en maintenant les températures et les vitesses moyennes des particules en vol constantes en agissant sur le courant d'arc. On peut donc sérieusement admettre que la recherche et les nouveaux défis industriels conduiront au développement des dépôts existants et à de nouveaux concepts. Pour ne donner que deux exemples au cours de la dernière décennie, deux grandes techniques de dépôts se sont développées :

• à un niveau potentiellement industriel, la société Sulzer Metco a développé un nouveau procédé appelé « plasma spray PVD » (PS-PVD) [34] où une torche de forte puissance (180 kW–3 000 A, débit de gaz plasmagène de 200 L · min^–1) produit un plasma qui débouche dans une chambre à une pression de 1 kPa. On obtient ainsi un jet de 2 m de long et de 0,4 m de diamètre. Les dépôts de zircone yttriée sont similaires à ceux obtenus par EB-PVD mais à un coût moindre et d'autres structures peuvent aussi être obtenues ;

• avec le développement des nanotechnologies beaucoup d'articles ont été consacrés à la projection par plasma ou HVOF de particules submicroniques ou nanométriques en suspension dans un solvant ou de précurseurs en solution dans un solvant (cf. l'article de revue de Fauchais et al. [35]). Les dépôts céramiques ainsi obtenus ont une bien meilleure ténacité à la rupture, une excellente résistance à l'usure, des propriétés de barrières thermiques...