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Traitements de surface par laser et tenue à la corrosion aqueuseArticle de référence | Réf : M1645 v2
Auteur(s) : Alain PRONER
Date de publication : 10 sept. 1999
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Projection dynamique par gaz froid (ou cold spray)Cet article fait partie de l’offre
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Le plasma est considéré comme le 4e état de la matière.
C’est un gaz ionisé constitué de molécules, d’atomes, d’ions et d’électrons, l’ensemble étant électriquement neutre. Un plasma Ar /H2 sera ainsi constitué des espèces suivantes : Ar, H, H+, Ar+, e–.
Pour générer un plasma, les trois éléments fondamentaux sont :
une source de puissance (générateur à courant continu) ;
une décharge ionisant le gaz (générateur haute fréquence ou haute tension) ;
un couplage assurant le contact entre deux électrodes via le gaz plasma.
Pour la projection thermique, deux propriétés conditionnent vitesse et température des particules projetées [6] :
la conductivité thermique qui détermine les transferts plasma-particules et donc l’état de fusion des particules lors de leur impact sur le substrat ;
la viscosité qui permet de diminuer les entrées d’air dans le jet plasma, d’augmenter la longueur du jet et d’éviter les réactions chimiques des particules (oxydation en particulier).
4.2 Procédé de projection plasma soufflé
Le procédé de projection plasma soufflé utilise comme source thermique un arc électrique éclatant entre une cathode et une anode dans un plasma gazeux, initié par une décharge haute fréquence en général. Le flux gazeux, ainsi porté à très haute température (15 000 à 20 000 oC), est étranglé dans une tuyère, et s’échappe de la buse à vitesse élevée. C’est à l’intérieur de ce jet de plasma à haute énergie que l’on injecte le matériau d’apport sous forme de poudre véhiculée par un gaz porteur. Les particules sont fondues et transportées par ce jet de gaz sur le substrat (figure 18).
Les mélanges gazeux utilisés sont en général formés d’Ar et de H2 . En effet, l’hydrogène...
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