Le réseau des acteurs français de l’ALD (Atomic Layer Deposition) – RAFALD – qui regroupe experts académiques et industriels dans le domaine des procédés de dépôt de couches minces atomiques, a fait appel à nous pour éditer un ouvrage collectif sur les différents aspects des procédés ALD et leurs spécificités dans chaque domaine d’applications. Ce numéro spécial a été distribué à l’occasion du prochain colloque organisé du 14 au 16 novembre 2016.
Savez-vous que nous disposons d’une gamme complète de prestations pour l’édition et la publication de vos contenus : actes de conférences, annuaires, guides, supports de communication, livres blancs, lettres d’information, ressources pédagogiques, etc. ?
Si vous souhaitez recevoir une offre adaptée à vos besoins, n’hésitez pas à nous contacter : [email protected].
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