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Nanomatériaux - Structure et élaboration| Réf : NM550 v1
Auteur(s) : Chaouqi MISBAH
Date de publication : 10 oct. 2005
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Sur la photolithographie :
Filtres à ondes de surface [E 2 200] de P. Defranould et P. Wright
Microscopie optique en champ proche [P 862] de D. Van Labeke
À défaut de disposer de machines intelligentes, comme le fait la nature, qui permettent de fabriquer sur une échelle de temps raisonnable des nanostructures, on a dû imaginer des procédés suffisamment rapides et efficaces pour les produire à l'échelle des besoins de la recherche fondamentale et des applications industrielles. La méthode la plus courante est basée sur la photolithographie. Cette méthode, dans le cas des semi-conducteurs, désigne l'ensemble des opérations permettant de délimiter l'extension latérale des matériaux sur la surface d'un substrat semi-conducteur, dont la structure est plus ou moins bidimensionnelle car basée sur l'empilement de couches à la surface d'une plaquette de silicium. Cette méthode est basée sur l'utilisation d'une radiation UV (ultraviolette) et des masques pour définir le motif que l'on souhaite reproduire sur la plaquette.
Plus précisément, cette opération consiste à déposer une résine photosensible en film mince (quelques fractions de micromètre à plusieurs micromètres), uniforme, de grande qualité et fortement adhérent. Ces résines sont des composés organiques (généralement des polymères thermoplastiques) dont la solubilité est affectée par le rayonnement UV. Il existe deux types de résines :
les résines négatives pour lesquelles le rayonnement UV entraîne une polymérisation des zones exposées, conférant ainsi à ces zones une tenue particulière au solvant...
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NANOSCIENCES ET NANOTECHNOLOGIES
(1) - MEINDL (D.), CHEN (Q.), DAVIS (A.) - Limits on silicon nanoelectronics for terascale integration. - A computer science odyssey, Science, vol. 293 ; no 5537 ; p. de 2044 à 2049 (2001).
(2) - DANKER (G.), PIERRE-LOUIS (O.), KASSNER (K.), MISBAH (C.) - Peculiar effects of anisotropic diffusion on dynamics of vicinal surfaces. - Phys. Rev. Lett., vol. 93, p. de 185504 à 185507 (2004).
(3) - ORLOV (A.O.), KUMMAMURU (R.), RAMASUBRAMANIAM (R.), LENT (C.S.), BERNSTEIN (G.H.), SNIDER (G.L.), WANDELT (K.) - Clocked quantum-dot cellular automata shift register. - Surface science, vol. 532-35 ; p. de 1193 à 1198 (2003).
(4) - YANO (K.), ISHII (T.), HASHIMOTO (T.), KOBAYASHI (T.), MURAI (F.), SEKI (K.) - Room-temperature single-electron memory. - IEEE transactions on electron devices ; vol. 41 ; no 9 ; pp. 1628-1638 (1994).
(5) - DEXLER (E.) - Engines of Creation. - Anchor Books Editions, 1986 (1990).
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