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Faisceaux d’ions - Théorie et mise en œuvreArticle de référence | Réf : M4396 v2
Auteur(s) : Erwan OLIVIERO
Date de publication : 10 déc. 2021
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Depuis une cinquantaine d’années, les études menées par la communauté scientifique, dans le domaine de l’interaction ion/matière, ont conduit à de nouveaux développements instrumentaux et à de nombreux transferts technologiques vers l’industrie. Le dopage par implantation ionique, procédé de fabrication incontournable de l’industrie des semi-conducteurs, en est un bel exemple.
À travers plusieurs domaines d’applications (métallurgie, microélectronique, stockage des déchets nucléaires…), cet article donne une vue, non exhaustive, de l’utilisation des faisceaux d’ions. Ils offrent un potentiel considérable, que ce soit pour simuler le vieillissement des matériaux, appliquer des contraintes localisées, modifier les propriétés structurales, optiques, magnétiques, mécaniques, ou encore de transport des matériaux.
Plus qu’une technique, les faisceaux d’ions offrent, via leurs paramètres expérimentaux, des degrés de liberté supplémentaires pour agir sur la matière. La compréhension de l’interaction ions/matière est donc essentielle si l’on veut appréhender, et prédire, l’évolution de la cible.
On notera que, lorsque l’on coupe le faisceau, le système, privé d’énergie, cesse pratiquement d’évoluer. La situation est alors analogue à une trempe, ce qui permet d’explorer le diagramme de phase de la cible suivant la stœchiométrie des espèces en présence, et d’obtenir de manière contrôlée des phases métastables cinétiquement bloquées.
La tendance générale à la miniaturisation des dispositifs nécessite de développer des sondes d’analyse, de plus en plus locales, et des moyens de synthèse à l’échelle nanométrique. Le développement de sources d’ions très intenses, et des systèmes de faisceaux d’ions fortement focalisés, permet de répondre à ces besoins en offrant des outils uniques pour la structuration de surface et la caractérisation à l’échelle nanométrique.
Enfin, la maîtrise des faisceaux d’ions et la compréhension de l’interaction ion/matière ont permis de développer de nombreuses méthodes de caractérisation qui sont de nos jours couramment utilisées dans de nombreux domaines.
Nous sommes reconnaissants à Monsieur le Professeur Bernard Jouffrey de ses conseils...
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(1) - KOSTLER (H.), TRAVERSE (A.), NEDELLEC (P.), DUMOULIN (L.), RUAULT (M.-O.), SCHAPBACH (L.), BURGER (J.P.), BERNAS (H.) - A new hydride : MgHx prepared by ion implantation. - Journal of Physics : Condens. Matter, Institut Of Physics (IOP) Publishing Ltd, 3, p. 8767-8776 (1991).
(2) - RAUSCHENBACH (B.), KOLITSCH (A.), HOHMUTH (K.) - Iron nitride phases formed by nitrogen ion implantation and thermal treatment. - Physica Status Solidi A, n° 2, Wiley Interscience, 80, p. 471-475 (1983).
(3) - HANSEN (M.), ANDERKO (A.K.) - Constitution of Binary Alloys (Constitution des alliages binaires). - Metallurgy and metallurgical engineering series, Genium Publishing Corporation Amsterdam & New York., 2e édition, 1305 p., © 1958 (1985).
(4) - HANSEN (M.), ELLIOT (R.P.) - Constitution of Binary Alloys : first supplement (Constitution des alliages binaires, suppléments à [81]). - Schenectady, N.Y. : Genium, 874 p. (1986).
(5) - SAWADA (K.), PAI (C.S.), LAU (S.S.), POKER (D.B.), BUCHAL (CH.) - Ion...
Émission X induite par particules chargées (PIXE) : théorie.
Émission X induite par particules chargées (PIXE) : applications.
Spectrométrie de collisions élastiques et de réactions nucléaires. Théorie.
Spectrométrie de collisions élastiques et de réactions nucléaires. Applications.
Spectrométrie de masse organique – Principe, méthodes d’introduction et d’ionisation.
...
1.1 Constructeurs – Fournisseurs – Distributeurs (liste non exhaustive)
Principaux fournisseurs d’implanteurs commerciaux ou services d’implanta- tions
Axcelis Technologies, Beverly, MA, États-Unis :
Applied Materials, Horsham, Royaume-Uni :
https://www.appliedmaterials.com/
Sumitomo Eaton Nova, Tokyo, Japon :
Nissin Electric, Kyoto, Japon :
Ibis Technology Danvers, MA, États-Unis :
http://host.web-print-design.com/ibis/index.html
Danfysik, Jyllinge, Danemark :
Advanced Ion Beam Technology, San Jose, CA, États-Unis :
Ion Beam Service, Peynier, France :
http://www.ion-beam-services.com
High Voltage Engineering, Amersfoort, Pays-Bas :
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