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Faisceaux d’ions - Théorie et mise en œuvreArticle de référence | Réf : M4396 v2
Auteur(s) : Erwan OLIVIERO
Date de publication : 10 déc. 2021
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Loi de Moore
Loi empirique qui vise à prévoir l'évolution de la puissance de calcul des ordinateurs et de la complexité du matériel informatique. Elle prévoit le doublement de la densité (nombre de transistors par unité de surface des puces électroniques) tous les deux ans grâce au passage à une gravure plus fine.
Cofondateur de la société Intel, Gordon Moore postule, en 1965, que le nombre de transistors par circuit de même taille allait doubler, à prix constant, tous les ans. Quelques années plus tard Moore rectifia sa prédiction à un doublement du nombre de transistors présents sur une puce de microprocesseur tous les deux ans. Ce second postulat se révéla particulièrement exact, et popularisa le terme de « loi de Moore ».
Faisceau d’ions focalisé ; Focused Ion Beam (FIB)
Instrument scientifique qui utilise un faisceau d'ions focalisé. Il s’agit également d’une technique utilisée en particulier dans l'industrie des semi-conducteurs, la science des matériaux et de plus en plus dans le domaine biologique pour l'analyse, le dépôt et l'ablation de matériaux à des échelles nanométriques.
Nanofil
Un nanofil est une nanostructure, dont le diamètre est exprimé en nanomètre.
PKA (Primary Knocked-on Atom)
Premier atome frappé (PAF) lors de la collision d’une particule incidente énergétique avec un solide. Après avoir été déplacé de son site initial, le PKA peut induire le déplacement d’autres atomes du réseau s'il possède une énergie suffisante, et créer une cascade de déplacement.
dpa (displacements per atom)
Nombre moyen de déplacements subis par les atomes d’un matériau soumis à un faisceau d’ions.
Matériau amorphe
Solide ne présentant aucune structure atomique ordonnée à moyenne et longue distance, les atomes y sont aléatoirement distribués comme dans un liquide.
RBS (Rutherford Backscattering Spectroscopy)
Technique d’analyse par faisceau d’ions basée sur la rétrodiffusion Rutherford. Elle permet de déterminer la structure et la composition de matériaux, de mesurer et contrôler l’épaisseur et la composition de matériaux multicouches. En mode canalisation (channeling RBS ou C-RBS), lorsque le faisceau incident est aligné avec l'axe majeur de symétrie d’une structure...
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ÉTUDE ET PROPRIÉTÉS DES MÉTAUX
(1) - KOSTLER (H.), TRAVERSE (A.), NEDELLEC (P.), DUMOULIN (L.), RUAULT (M.-O.), SCHAPBACH (L.), BURGER (J.P.), BERNAS (H.) - A new hydride : MgHx prepared by ion implantation. - Journal of Physics : Condens. Matter, Institut Of Physics (IOP) Publishing Ltd, 3, p. 8767-8776 (1991).
(2) - RAUSCHENBACH (B.), KOLITSCH (A.), HOHMUTH (K.) - Iron nitride phases formed by nitrogen ion implantation and thermal treatment. - Physica Status Solidi A, n° 2, Wiley Interscience, 80, p. 471-475 (1983).
(3) - HANSEN (M.), ANDERKO (A.K.) - Constitution of Binary Alloys (Constitution des alliages binaires). - Metallurgy and metallurgical engineering series, Genium Publishing Corporation Amsterdam & New York., 2e édition, 1305 p., © 1958 (1985).
(4) - HANSEN (M.), ELLIOT (R.P.) - Constitution of Binary Alloys : first supplement (Constitution des alliages binaires, suppléments à [81]). - Schenectady, N.Y. : Genium, 874 p. (1986).
(5) - SAWADA (K.), PAI (C.S.), LAU (S.S.), POKER (D.B.), BUCHAL (CH.) - Ion...
Émission X induite par particules chargées (PIXE) : théorie.
Émission X induite par particules chargées (PIXE) : applications.
Spectrométrie de collisions élastiques et de réactions nucléaires. Théorie.
Spectrométrie de collisions élastiques et de réactions nucléaires. Applications.
Spectrométrie de masse organique – Principe, méthodes d’introduction et d’ionisation.
...
1.1 Constructeurs – Fournisseurs – Distributeurs (liste non exhaustive)
Principaux fournisseurs d’implanteurs commerciaux ou services d’implanta- tions
Axcelis Technologies, Beverly, MA, États-Unis :
Applied Materials, Horsham, Royaume-Uni :
https://www.appliedmaterials.com/
Sumitomo Eaton Nova, Tokyo, Japon :
Nissin Electric, Kyoto, Japon :
Ibis Technology Danvers, MA, États-Unis :
http://host.web-print-design.com/ibis/index.html
Danfysik, Jyllinge, Danemark :
Advanced Ion Beam Technology, San Jose, CA, États-Unis :
Ion Beam Service, Peynier, France :
http://www.ion-beam-services.com
High Voltage Engineering, Amersfoort, Pays-Bas :
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