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Faisceaux d’ions - Théorie et mise en œuvreArticle de référence | Réf : M4396 v2
Auteur(s) : Erwan OLIVIERO
Date de publication : 10 déc. 2021
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3.1 Formation de couches enterrées métalliques
À hautes doses, des ions dopants, implantés dans une matrice dans des conditions expérimentales adéquates (température de la matrice, énergie et flux des ions), permettent de synthétiser des couches d’alliage à une profondeur contrôlée .
Cette méthode est employée notamment dans le silicium pour former des couches enterrées de siliciures métalliques par implantation de Ni, Co ou Fe. Les différentes étapes de la synthèse de ces couches de siliciures enterrées peuvent être suivies et quantifiées in situ en alternant successivement le faisceau d’implantation et un faisceau d'hélium pour une analyse en RBS (Rutherford Backscattering Spectroscopy) (voir § 6).
Ces couches sont utilisées pour les interconnexions en microélectronique. Pour obtenir une bonne qualité de ces couches (en particulier leur planéité) il est cependant nécessaire de procéder à des traitements thermiques ultérieurs.
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L’implantation ionique est couramment utilisée comme technique de traitement de surface pour augmenter la dureté des surfaces. En effet, en métallurgie, une amélioration des propriétés tribologiques, de la résistance au frottement, à la fatigue, à l’usure et à...
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ÉTUDE ET PROPRIÉTÉS DES MÉTAUX
(1) - KOSTLER (H.), TRAVERSE (A.), NEDELLEC (P.), DUMOULIN (L.), RUAULT (M.-O.), SCHAPBACH (L.), BURGER (J.P.), BERNAS (H.) - A new hydride : MgHx prepared by ion implantation. - Journal of Physics : Condens. Matter, Institut Of Physics (IOP) Publishing Ltd, 3, p. 8767-8776 (1991).
(2) - RAUSCHENBACH (B.), KOLITSCH (A.), HOHMUTH (K.) - Iron nitride phases formed by nitrogen ion implantation and thermal treatment. - Physica Status Solidi A, n° 2, Wiley Interscience, 80, p. 471-475 (1983).
(3) - HANSEN (M.), ANDERKO (A.K.) - Constitution of Binary Alloys (Constitution des alliages binaires). - Metallurgy and metallurgical engineering series, Genium Publishing Corporation Amsterdam & New York., 2e édition, 1305 p., © 1958 (1985).
(4) - HANSEN (M.), ELLIOT (R.P.) - Constitution of Binary Alloys : first supplement (Constitution des alliages binaires, suppléments à [81]). - Schenectady, N.Y. : Genium, 874 p. (1986).
(5) - SAWADA (K.), PAI (C.S.), LAU (S.S.), POKER (D.B.), BUCHAL (CH.) - Ion...
Émission X induite par particules chargées (PIXE) : théorie.
Émission X induite par particules chargées (PIXE) : applications.
Spectrométrie de collisions élastiques et de réactions nucléaires. Théorie.
Spectrométrie de collisions élastiques et de réactions nucléaires. Applications.
Spectrométrie de masse organique – Principe, méthodes d’introduction et d’ionisation.
...
1.1 Constructeurs – Fournisseurs – Distributeurs (liste non exhaustive)
Principaux fournisseurs d’implanteurs commerciaux ou services d’implanta- tions
Axcelis Technologies, Beverly, MA, États-Unis :
Applied Materials, Horsham, Royaume-Uni :
https://www.appliedmaterials.com/
Sumitomo Eaton Nova, Tokyo, Japon :
Nissin Electric, Kyoto, Japon :
Ibis Technology Danvers, MA, États-Unis :
http://host.web-print-design.com/ibis/index.html
Danfysik, Jyllinge, Danemark :
Advanced Ion Beam Technology, San Jose, CA, États-Unis :
Ion Beam Service, Peynier, France :
http://www.ion-beam-services.com
High Voltage Engineering, Amersfoort, Pays-Bas :
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