Nettoyage en profondeur au dioxyde de carbone

Le phénomène de miniaturisation progressive des composants électroniques a rendu plus difficile que jamais le nettoyage d’éléments toujours plus complexes, toujours plus fragiles et sensibles à la présence de la moindre des impuretés, provoquant entre autres défaillances et courts-circuits.

Nettoyer les composants électroniques d’un serveur informatique, d’un disque dur ou encore d’une lunette astronomique (dont l’optique est altérée par les impuretés) n’a jamais autant été un challenge pour les fabricants et concepteurs de technologie de nettoyage.

La solution pourrait provenir de l’un des instituts Fraunhofer (le « Fraunhofer Institute for Manufacturing Engineering and Automation IPA »), qui aurait développé un outil capable de nettoyer en profondeur, et de débarrasser complètement des particules indésirables les zones les plus inaccessibles du composant à nettoyer.

Pour ce faire, l’équipe de scientifiques à l’origine de la découverte a combiné deux technologies de nettoyage différentes en une seule et même étape : dégraisser à l’aide de CO2 en phase supercritique, et se débarrasser des particules en se servant de cristaux de neige carbonique.

« Le CO2 en phase supercritique absorbe les corps étrangers tels que huiles et graisses […], et ce sans endommager la surface nettoyée » explique Markus Rochowicz, ingénieur chez IPA ayant travaillé au développement de cet outil. Une fois le nettoyage terminé, le dioxyde de carbone repasse du stade solide au stade gazeux (les cristaux de neige carbonique s’évaporent, laissant le composant propre et sec), un plus pour les appareils ou le matériel sensibles à l’humidité.

La taille réduite du bec nettoyeur pourrait être un argument de poids supplémentaire et « intéresser grandement les fabricants de supraconducteurs, l’industrie pharmaceutique, le secteur aérospatial et le secteur de l’optique » ajoute Markus Rochowicz.

Par Rahman Moonzur, journaliste scientifique