SALD vs ALD
Dépôt par couche atomique spatiale (SALD)

La technique ALD a été brevetée en 1977 par T. Suntola . Dans ce premier brevet, les approches temporelle et spatiale ont déjà été proposées. Dans le premier cas, les précurseurs sont injectés sous forme d’injections consécutives séparées par des étapes de purge (et donc séparés dans le temps). Dans le deuxième, les précurseurs sont fournis en continu en différents endroits, et c’est le substrat qui se déplace d’un endroit à un autre (ainsi les précurseurs sont déposés en étant séparés dans l’espace, voir figure 1).

Dans tous les schémas de bâtis proposés dans le premier brevet de Suntola, la réaction a lieu à l’intérieur des chambres de dépôt qui fonctionnent sous vide. Curieusement, bien que les trois premiers réacteurs proposés par Suntola fussent à séparation spatiale, suivis de deux réacteurs temporels (figure 2), l’ALD a traditionnellement été développée en se basant uniquement sur les approches temporelles, à la fois industriellement et au niveau du laboratoire, jusqu’à récemment.

Quelques années plus tard, dans un nouveau brevet de 1983, Suntola introduit l’idée d’utiliser un flux de gaz inerte pour séparer les différents précurseurs, comme une alternative à la purge sous vide . Il a appliqué à nouveau ce principe aux deux types de réacteurs, temporels et spatiaux (figure 3). Cela a été étayé par une étude analytique de la diffusion des précurseurs à travers l’écoulement de gaz inerte en fonction de la conception...