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Techniques du vide - IntroductionArticle de référence | Réf : BM4040 v1
Auteur(s) : Jean LECLERC
Date de publication : 10 oct. 1997
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Comment définir une qualité pour le vide ?
Doit-on s’intéresser au contenant ou au contenu ?
Dans un réservoir rempli initialement d’azote à la pression atmosphérique, plongé dans un bain d’hélium liquide, la pression est inférieure à 10−12 Pa. On ne sait pas la mesurer et pourtant nous n’avons pas fait le vide au sens où on l’entend couramment.
La qualité du vide que chacun recherche dépend de l’opération qu’il souhaite réaliser. Il doit donc rédiger un cahier des charges ou des spécifications précises, en sachant que les bornes de qualité ne sont pas très bien définies.
La seule définition raisonnable du vide propre nous est donnée par G. Rommel : « La composition du gaz résiduel, contrôlée par un analyseur de pression partielle et donnée en rapport des pressions partielles à la pression totale, est la suivante :
H2 (pics 1 à 2) supérieure à 70 % ;
H2O (pics 17 et 18 ) inférieure à 20 % ;
présence possible des pics 4, 12, 16, 28, 32, 40, 44 (hélium,carbone, méthane, mono-oxyde de carbone ou azote, oxygène, argon, dioxyde de carbone) ;
somme des pics 13, 14, 15, 20, 22, 24, 25, 26, 27, 29, 30, 31, 33, 34, 36, 39, 41, 42, 43, 45 inférieure à 1 % ;
pas de pics 19 (fluor), quoique, dans certaines conditions, on peut avoir H3O+, 35 et 37 (chlore) 48 (mono-oxyde de soufre) ;
pas de pic supérieur à 50 ».
Cette définition correspond grossièrement à une enceinte métal-lique correctement nettoyée, équipée de joints métalliques, non étuvée et pompée en vide poussé durant quelques heures.
Quant aux particules, l’industrie des semi-conducteurs vise, pour l’an 2010, une densité de 0,0125 particules redéposée de taille inférieure à 0,03 µm par centimètre carré.
Les moyens de mesure et d’observation devenant de plus en plus performants on joue avec les molécules et les atomes dans un monde qui, dans ce cas, n’est plus virtuel.
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(2) - ROMMEL (G.) - Dimensionnement et calcul des installations sous vide. - TI B 4 080.
(3) - ROMMEL (G.) - Technique du vide. Généralités. - TI B 4 020.
(4) - VERTES (M.) - Types of contaminations, their depositions on surface and the technology of cleaning of metal and glass parts of UHV equipement. - Vuoto vol. XX no 2 avril-juin 1990.
(5) - SANTELER (D.) , WARREN (D.) - Computer solution to chamber-gas fractionation during pumpdown. - JVST A11 (1) janv.-févr. 1993.
(6) - SANTELER (D.) - Computer design and analysis of vacuum systems. - JVST A5 (4) juill.-août 1987 p. 2 472-2 478.
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